As gevolg van sy uitstekende werkverrigting wat wyd gebruik word in spesiale nywerhede soos sputterteikens en lugvaart. Tantaal teiken word hoofsaaklik gebruik om die sperlaag te maak om die wedersydse verspreiding van aluminium of koper en silikon te voorkom, onder normale omstandighede hoe hoër die suiwerheid van tantaal teiken, die vorming van die sperlaag tekstuur en mikrostruktuur meer eenvormig, Hoe beter die prestasie. Ten einde die verfyningsvermoë te verbeter om hoë suiwerheid te verkry tantaal teiken, word elektronstraalsmelting (EBM) gebruik om hoësuiwer tantaal te produseer. Die EBM-staaf bevat egter 'n paar growwe kolomkorrels met afmetings tot op sentimetervlak. Daarom word EBM-tantaal nie direk vir industriële sputtering-teikens gebruik nie, maar deur soos smee, rol, uitgloeiing en sekondêre uitgloeiing en 'n reeks prosesse om swakker tekstuur, fyn korrel en eenvormige organisasie voor te berei. 

Op grond hiervan word die metode om eenvormige korrelgrootte te verkry en tekstuur te beheer deur rol en smee uitgloeiing in 'n groot hoeveelheid gebruik, en die metode om die hoë suiwer tantaalplaat rolpad te verander om die optimale mikrostruktuur en tekstuurverspreiding te verkry. Ook voorgestel, soos bv. as die gebruik van rol, simmetriese rol en asimmetriese rol. Onlangs het die navorsingsgroep die mikrostruktuur en tekstuur-evolusie van tantaal onder 135 ° kruisrol bestudeer. Die resultate toon dat die vervormingsmikrostruktuur, ontwrigtingsmorfologie en tekstuurverspreiding verander kan word deur die hoeveelheid roldeformasie te verander, wat die daaropvolgende uitgloei- en herkristallisasieproses kan beïnvloed. Dit is 'n effektiewe manier om die mikrostruktuur en tekstuur van die materiaal te beheer. Die probleem van mikrostruktuur en tekstuurgradiënt-evolusie van tantaalteiken langs die dikterigting word egter selde bestudeer.